Жартылай өткізгіштерге арналған жоғары таза изостатикалық графит

Semixlab Жоғары тазалықтағы изостатикалық графит өзінің жоғары тазалығына, ұсақ түйіршікті құрылымына, біркелкі тығыздығына, термиялық соққыға төзімділігіне және тамаша өңдеуге қабілеттілігіне байланысты жартылай өткізгіш өнеркәсібінде кеңінен қолданылады. Төменде негізгі дайын өнімдер және олардың маңызды процестердегі сәйкес рөлдері берілген:

Жартылай өткізгіштік қолданбаларға арналған изостатикалық графит

1. MOCVD (металл-органикалық химиялық буларды тұндыру)

MOCVD - GaN, GaAs және SiC эпитаксиалды қабаттарын жасауға арналған негізгі процесс. Изостатикалық графит әдетте өндірісте қолданылады:

● Қабырғалар: реактор ішінде пластиналарды ұстайтын және айналдыратын вафельді тасымалдаушылар ретінде қызмет етеді. Олар пластинаның бетінде дәйекті эпитаксиалды өсуді қамтамасыз ететін біркелкі жылу беруді қамтамасыз етеді. Химиялық төзімділікті жақсарту және қызмет ету мерзімін ұзарту үшін әдетте CVD SiC немесе TaC қапталған.

● Вафельді тасымалдаушылар / Графит қайықтары: бір уақытта бірнеше вафлиді жүктеу үшін қолданылады. Олар пластинаның тегістігін сақтау және ластануды болдырмау үшін дәл өңдеуді қажет етеді.

● Қыздырғыш элементтері: Графитті жылытқыштар жоғары сапалы эпитаксия үшін қажетті тұрақты және біркелкі жылу өрістерін қамтамасыз етеді.

Негізгі рөл: изостатикалық графит температураның біркелкілігін, химиялық тұрақтылықты және ұзақ қызмет ету мерзімін қамтамасыз етеді, бұл эпитаксиалды пленка сапасына тікелей әсер етеді.

2. Күйдіру және диффузиялық пештерде

Қоспаның диффузиясы, тотығу және күйдіру сияқты жоғары температуралы термиялық өңдеу қадамдары негізінен изостатикалық графит компоненттеріне сүйенеді, соның ішінде:

● Диффузиялық пеш қайықтары: жоғары температурада күйдіру және қоспаны диффузиялау процестері кезінде пластиналарды ұстаңыз. Графит қайталанатын термиялық цикл кезінде тамаша термиялық тұрақтылықты және минималды деформацияны қамтамасыз етеді.

● Графиттер мен оқшаулағыш құрамдас бөліктер: Графит төсемдер мен қалқандар пеш камераларын ластанудан қорғайды және температураның біркелкілігін арттырады.

● Жылыту түтіктері мен элементтері: жоғары температуралы орталарда дәл және тұрақты жылуды беретін қарсылық қыздырғыштар ретінде пайдаланылады.

Негізгі рөл: изостатикалық графит компоненттері ластанусыз, тұрақты және қайталанатын термиялық өңдеуге мүмкіндік береді, қоспаны белсендіру және ақауларды азайту үшін өте маңызды.

3. SiC эпитаксиясында (4H-SiC, 6H-SiC өсуі)

SiC эпитаксиалды өсуі өте жоғары температураны (>1500°C) және коррозиялық газ ортасын талап етеді. Изостатикалық графит өндіру үшін қолданылады:

● SiC жабыны бар қабылдағыштар: SiC эпитаксисі кезінде субстратты қолдауды қамтамасыз етіп, төтенше жағдайларда тамаша жылу таралуын және бетінің тұрақтылығын қамтамасыз етеді.

● Графит қалақшалары және вафли ұстағыштары: біркелкі өсу жылдамдығы мен қабат қалыңдығын қамтамасыз ете отырып, айналу және газ ағыны кезінде пластиналарды бекітіңіз.

● Түтіктің құрамдас бөліктері: эпитаксистік реакторлардың ішіндегі құрылымдық графит бөліктері тазалықты сақтай отырып, агрессивті ортаға төтеп береді.

Негізгі рөл: SiC эпитаксисіндегі изостатикалық графит өлшемдік дәлдікті, химиялық төзімділікті және пластинаның шығымдылығына және эпитаксиалды қабықтың біркелкілігіне тікелей әсер ететін сенімді жылуды басқаруды қамтамасыз етеді.

Қытайдағы жоғары таза изостатикалық графиттің жетекші жеткізушісі ретінде Semixlab жартылай өткізгіштерді өңдеу өнеркәсібі үшін озық өнімдер мен техникалық шешімдерді ұсынуға ұмтылады. Біз сіздің сұрауларыңызды кез келген уақытта қабылдаймыз және сіздің ұзақ мерзімді серіктес боламыз деп шын жүректен үміттенеміз.