SiC эпитаксиясына арналған 8 дюймдік TaC қапталған ауа қалқымалы науа

8 дюймдік TaC қапталған ауа қалқымалы науа эпитаксиалды өсу кезінде кремний карбиді пластинкаларын қолдауға және тасымалдауға арналған көп вафферлі SiC эпитаксия процестерінің маңызды құрамдас бөлігі болып табылады. SiC эпитаксистік пештерінің талап етілетін ортасында науалар өте жоғары температураға, коррозиялық газдарға және ұзақ өңдеу циклдарына төтеп беруі керек. CVD TaC жабынын жоғары таза графит субстраттарымен үйлестіре отырып, бұл ауа қалқымалы науасы жоғары беріктікті, термиялық тұрақтылықты және процестің біркелкілігін қамтамасыз етеді, бұл оны SiC жоғары көлемді вафли өндірісінде маңызды құрал етеді.

Ⅰ. Материалдық құрамы және физикалық қасиеттері

TaC қапталған ауа қалқымалы науасы жартылай өткізгіш эпитаксисте қажетті механикалық беріктік пен химиялық төзімділікке қол жеткізу үшін жетілдірілген материалдарды біріктіреді:

●Субстрат материалы: Жоғары таза графит сенсоры (қоспаның өте төмен мөлшері, жоғары жылу өткізгіштігі)

●Бетті қорғау қабаты: Төтенше тозуға және коррозияға төзімділік үшін химиялық бу тұндыру арқылы қолданылатын CVD TaC жабыны (тантал карбиді)

Негізгі физикалық қасиеттер:

TaC жабынының тазалығы: ≥ 99.99%

Қаттылық (HK): ~2000 HK

Балқу температурасы: ~3,880 °C

Жылуөткізгіштік: Өте жақсы, біркелкі вафельді жылытуды қамтамасыз етеді

Галогендік коррозияға төзімділік: хлор және фторға бай эпитаксиалды ортада тамаша тұрақтылық

Негізгі графит тығыздығы: ~1.85–1.95 г/см³

Жұмыс температурасы: бақыланатын орталарда 2,000 °C дейін

Бұл қасиеттер 8 дюймдік TaC қапталған науаның бөлшектердің пайда болуын және пластинаның ластануын азайта отырып, ұзақ эпитаксиалды жүгірістерге төтеп беруін қамтамасыз етеді.

Ⅱ. SiC эпитаксисіндегі негізгі функциялар

Біздің 8 дюймдік TaC қапталған науа бірнеше маңызды функцияларды орындай отырып, жартылай өткізгіш SiC эпитаксис процесінде маңызды рөл атқарады:

●Температураның біркелкі таралуы: Графит субстратының және TaC жабынының жоғары жылу өткізгіштігі барлық SiC пластиналарындағы тамаша жылу беруді және біркелкі температураны қамтамасыз етеді. Бұл біркелкі эпитаксиалды қабаттың тұрақты қалыңдығы мен морфологиясына қол жеткізу үшін өте маңызды.

● Оңалтудан және ластанудан қорғау: Химиялық инертті TaC жабыны графиттік субстраттың прекурсорлық газдармен әрекеттесуіне тиімді түрде жол бермейді, бұл оюды тудыруы және бөлшектердің ластануын тудыруы мүмкін. Бұл қорғаныс таза технологиялық ортаны сақтаудың және пластинаның жоғары шығымдылығын қамтамасыз етудің кілті болып табылады.

●Ұзартылған қызмет мерзімі: Төзімді TaC жабыны графитті тозудан және химиялық деградациядан қорғау, ауыстыру жиілігін азайту және пайдалану шығындарын азайту арқылы сенсордың қызмет ету мерзімін айтарлықтай ұзартады.

●Әуе қалқымалы дизайны: Бірегей ауа қалқымалы дизайны қабылдағыш пен камера арасындағы физикалық байланысты азайтады, үйкелісті азайтады және пластиналарды ластауы мүмкін бөлшектердің пайда болуын болдырмайды. Бұл дизайн сондықтан оны TaC қапталған ауа қалқымалы науасы деп те атайды.

Semixlab артықшылықтары

Semixlab-те біз эпитаксистік процестің нақты қажеттіліктерін қанағаттандыратын бейімделген шешімдерді ұсыну үшін стандартты өнімдерден асып түсеміз.

●Реттеу: Біз реактордың техникалық сипаттамалары мен технологиялық талаптарға толық сәйкес келу үшін әртүрлі пішіндерді, өлшемдерді және жабын қалыңдығын қоса алғанда, теңшеудің жан-жақты опцияларын ұсынамыз.

●Маманның техникалық кеңесі: Біздің тәжірибелі инженерлер тобы терең техникалық қолдау мен кеңес береді, бұл сіздің процесті оңтайландыруға және өнімдерімізді біркелкі біріктіруге көмектеседі.

●Жіберу алдындағы қатаң сынақ: Әрбір TaC қапталған пластина жөнелтпес бұрын төтенше жағдай сынағынан өтеді. Біз оның өнімділігі мен тұтастығын жоғары температурада және химиялық агрессивті ортада тексереміз, ол сіздің талап етілетін операциялық қажеттіліктеріңізді қанағаттандырады.