Жоғары тазалықтағы кварц диффузиялық пеш түтігі

Жоғары тазалықтағы кварц диффузиялық пеш түтігі жартылай өткізгіш пластиналар өндірісінде жоғары температуралы диффузиялық процесс үшін арнайы әзірленген. Ол өте жоғары таза синтетикалық кварц құмымен (SiO₂тазалығы ≥99.999%). 7 нм-ден төмен жетілдірілген процестердің тазалығы, термиялық тұрақтылығы және химиялық инерттілігі бойынша қатаң талаптарға жауап беріңіз. Құрылымның тұрақтылығын 1200 ℃ жоғары температура жағдайында қамтамасыз ету үшін, фосфор/бор қоспалары, оксидтердің өсуі және басқа да негізгі процестерде кеңінен қолданылатын доғалық балқыту процесі және дәл өңдеу технологиясы арқылы өнімдер.

Негізгі материалдар мен сипаттамалар

Ультра жоғары таза материал

SiO₂ тазалығы: ≥99.999% (5N сорты), жалпы қоспа элементі ≤2ppm (SEMI F63 стандартына сәйкес).

Негізгі қоспаларды бақылау: Li+Na+K≤0.5ppm, Fe≤0.1ppm, Al≤0.3ppm, B≤0.05ppm (допинг кедергісін болдырмаңыз).

Гидроксил мазмұны: ≤1ppm (жоғары температурадағы сутегінің бөлінуінен туындаған вафель ақауларының алдын алу үшін дегидроксилдену өңдеуден кейін).

Жылу өнімділігін оңтайландыру

Термиялық кеңею коэффициенті: 5.5×10^-7K^-1(20-1000 °C), температураның кенет өзгеруінен туындаған деформациялық крекингті болдырмайды.

Жұмсарту нүктесі: 1680℃, ұзақ мерзімді жұмыс температурасы ≤1250℃ (жылдам көтерілу мен салқындату процесін қолдайды).

Термиялық соққыға төзімділік: 1200 ℃ → бөлме температурасының сөндіру цикліне ≥200 рет шыдау (ASTM C338 стандартты тексеру).

Химиялық инерттілік және тазалық

Коррозияға төзімділік: HF, HCl, HNO₃ және басқа күшті қышқылдарға төзімді (салмақ жоғалту жылдамдығы ≤0.005мг/см²·сағ).

Бет тазалығы: Ra≤0.1μm (CMP жылтырату), бөлшектер ≤5/m2 (@0.1μm, ISO 1 класына сәйкес).

Металлдың ластануын бақылау: металл бетіндегі қалдық ≤0.1ppb (ICP-MS анықтау).

Қысқаша мәліметтер:

1. Басқа атаулар: кварц реакциялық түтік, жоғары температуралы пеш түтігі.

2. Қолданылуы: Вафлиді диффузия процесі.

3. Негізгі параметрлер: Тазалық ≥99.995%, температураға төзімділік 1600℃, ішкі диаметрі 20-300мм.

Жоғары температуралы диффузиялық допинг.

Фосфор/бор қатты күйдегі көздің диффузиясы (1000-1200℃).

Жылдам термиялық күйдіру (RTA) процесі (өсу/салқындату жылдамдығы ≥100℃/с).

Ультра жоғары тазалық пен кристалдануға төзімділік, пеш түтігінің қызмет ету мерзімін ұзартады.

Күрделі құрылым дизайнын қолдау, әртүрлі технологиялық талаптарға бейімделу.

Өлшемдерге төзімділікті қатаң бақылау (±0.5 мм).